China a construit, în secret, un prototip de mașină de litografie cu raze ultraviolete extreme (EUV), esențială pentru fabricarea celor mai avansate cipuri folosite în inteligența artificială, telefoane inteligente și aplicații militare, potrivit unei investigații Reuters. Mașina, dezvoltată într-un laborator securizat din Shenzhen și finalizată la începutul anului 2025, ocupă aproape un întreg spațiu de producție și este acum supusă testelor, dar nu a produs încă cipuri funcționale.
• Prototipul a fost construit de o echipă de foști ingineri de la firma olandeză ASML, care deține monopolul mondial în tehnologia EUV, folosind componente achiziționate de pe piețele second-hand și tehnici de inginerie inversă. Mașina generează lumină EUV, dar încă nu atinge nivelul de precizie optic necesar pentru producția de cipuri la scară industrială.
• Acest program secret face parte dintr-o inițiativă de stat lansată în 2019, comparată de oficiali și surse cu „proiectul Manhattan” al SUA, având ca scop independența tehnologică față de Occident și depășirea restricțiilor impuse prin sancțiuni și controale la export. Guvernul vizează obținerea de cipuri funcționale până în anul 2028, deși sursele Reuters consideră un termen mai probabil anul 2030. Huawei joacă un rol central în coordonare, alături de institute de cercetare chineze.
• Mașina chineză este considerată încă rudimentară în comparație cu echipamentele ASML, în special din cauza lipsei opticii de înaltă precizie furnizată de companii occidentale, dar progresul sugerează o apropiere mai rapidă de independența în lanțul global de producție de semiconductori, decât se estima anterior.
Sursa: Yahoo.com